Аналитик компании Arete Research LLC Джагадиш Айер (Jagadish Iyer) раскрыл некоторые подробности, касающиеся планов Intel относительно литографии для 22-нм техпроцесса. По данным отраслевых источников, процессорный гигант уже определился с поставщиками литографических решений для своих 22-нм чипов – ими, вероятно, станут ASML и Nikon. Компания Intel воспользуется их технологиями иммерсионной литографии.
Интересно отметить, что для 32-нм процессоров единственным поставщиком оборудования Intel избрала компанию Nikon. При переходе на 32-нм техпроцесс Intel впервые задействовала иммерсионную литографию. Для производства 45-нм чипов использовалось оборудование Nikon и ASML. При переходе на 22-нм проектные нормы Intel продолжит использовать 193-нм иммерсионную литографию, и теперь уже опять будет сотрудничать с двумя поставщиками.
По прогнозам аналитиков, к концу текущего года Intel выпустит всего около пяти тысяч пластин с 22-нм микросхемами. Это связано с медленным принятием решений по закупке литографического оборудования. Высокие объемы 22-нм производства ожидаются в 2011 и 2012 годах, когда оно будет запущено на четырех заводах Intel (на каждый из них придется около 45 тыс. пластин в месяц).
Как ожидается, ASML отгрузит для Intel 18 комплектов оборудования NXT 1950i. В свою очередь, Nikon поставит 25 комплектов NSR-S620D. В настоящее время на заводе Intel установлено 3 станка ASML NXT. Ещё два-три комплекта будет закуплено в ближайшие шесть месяцев.
Nikon NSR-S620D имеет несколько улучшений по сравнению с первой версией S620. Числовая апертура объектива составляет 1.35 вместо 1.30. Кроме того, модель NSR-S620D спроектирована на новой платформе Streamlign, а её производительность составляет 200 пластин в час. Оборудование ASML TwinScan NXT 1950i предназначено для массового выпуска 300-мм пластин с микросхемами класса "32 нм и ниже”. Числовая апертура NXT 1950i также составляет 1.35. По данным Джагадиша Айера, цена одного комплекта иммерсионного оборудования ASML составляет почти $55 млн, а один аппарат Nikon стоит около $30 млн.
Согласно отраслевым слухам, Intel планирует использовать 193-нм иммерсионную литографию также и при переходе на 11-нм проектные нормы. Так что приход EUV-литографии вновь откладывается на неопределенный срок.
|
